氧化锆陶瓷高剪切胶体磨是由二组陶瓷转子，二组陶瓷定子组成，在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转，使陶瓷转子甩出，紧贴陶瓷定子，产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中
氧化锆陶瓷高剪切胶体磨
陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子，二组陶瓷定子组成，在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转，使陶瓷转子甩出，紧贴陶瓷定子，产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中，**、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中，通常物料中的各个相是互不相溶的。。使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用，使物料经过研磨后细度大大提高，再通过适量的添加剂共同作用，使产品快速、均匀、分散、乳化，研磨，避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点，效能比原来有胶体磨提高3倍以上，特别是对金属污染要求特别高的企业，如电子和电池行业，可以达到更高品质产品。
陶瓷胶体磨，包括氧化锆陶瓷胶体磨，氧化铝陶瓷胶体磨，氮化硼陶瓷胶体磨，但是硬度**的是氧化锆陶瓷胶体磨
氧化锆陶瓷胶体磨用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
GMSD2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GMSD2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上，**的转速可以达到14000RPM.所以可以达到更好的分散湿磨效果。
以下为型号表供参考：
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
GM2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GM2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GM2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GM2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GM2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GM2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
氧化锆陶瓷高剪切胶体磨
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