【GMD2000系管线式电子废液研磨分散机列的特点】 ①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。②该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合。③三级研磨分散机由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。
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【GMD2000系列研磨分散机在电子废料处理中的作用】
面对浮油的问题，上海思峻技术员们根据这部分客户的需要，研发生产出GMD2000系列的研磨分散机，将电子废料通过清洗剂，表面活性剂处理后，在用GMD2000研磨分散机处理一边，处理之后浮油可以乳化掉，直接排放。更有利于环境保护。
【电子废液GMD2000系列研磨分散机的工作原理】
电子废液GMD2000系列研磨分散机就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相（液体、固体、气体）进入到另一互不相溶的连续相（通常是液体）的过程。而在通常情况下各个相是互不相溶的。当外部能力输入时，两种物料重组成为均一相。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂等综合作用，形成悬乳液、乳液和泡沫。从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频的循环往复，zui终得到稳定的高品质产品。
【GMD2000系管线式电子废液研磨分散机列的特点】
①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。
②该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合。
③三级研磨分散机由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。
【电子废液GMD2000系列研磨分散机设备选型表】
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
GMD2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
GMD2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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